Technologien
Wir bieten Epi-Strukturen auf Wafern bis 4'' oder 8'' sowie Prozesslinien auf Wafern bis 4'' nach Anwendungsspezifikationen an.
Lateral
- AlGaN/GaN-on-Si (N-OFF, N-ON, 48 V, 650 V, 1200 V)
- AlScN/GaN-on-Si
- GaN-on-CMOS-Heterointegration (Mikro-Transferdruck, Wafer-to-Wafer, Si-Trägersubstratentfernung uvm.)
- GaN-on-X (X= GaN, SiC, QST®, Saphir, Diamant)
